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光学电子净化工程

光学电子净化工程是将一定范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等污染物排除,并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内而设计出的密闭空间。光学电子净化工程已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造等行业不可或缺的主要设施。

系统组成

  • 洁净区

    空气悬浮粒子浓度
    受控的限定空间

  • 洁净辅助区

    净化用房
    物料净化室
    部分生活用房

  • 管理区

    办公、值班
    及管理用房

  • 设备区

    净化空调设备
    电气设备
    冷热设备和高纯水
    高纯气管道设备

等级标准

洁净室(区)空气洁净级别表

洁净室级别 尘粒最大允许数/立方米
≧0.5μm尘粒数
≧0.5μm尘粒数 微生物最大允许数
(浮游菌/立方米)
沉降菌/皿
100级 3500 0 5 1
1000级 350000 2000 100 3
10000级 3500000 20000 500 10
30000级 10500000 60000 1000 15

光学微电子净化工程换气参数

换气次数 100000级≧15次
10000级≧20次
1000级≧30次
压差 主车间对相邻房间≧5pa
平均风速 10级、100级 0.3~0.5m/s 温湿度 冬季﹥16℃
夏季﹤26℃波动±2℃
湿度45~65%
GMP粉剂车间湿度在50%左右为宜
电子车间湿度略高以免产生静电
噪音 ≦65db(A)
新风补充量 新风补充量是总风量的10%~30%
照度 300LX

解决方案

应用领域

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